其他碟机5E9B69-59698132
  • 型号其他碟机5E9B69-59698132
  • 密度235 kg/m³
  • 长度42093 mm

  • 展示详情

    其他碟机5E9B69-59698132货柜式的阿斯麦光刻机

    需要指出,其他碟机5E9B69-59698132光刻机的分辨率跟集成电路工艺的尺寸不是一个概念。目前,其他碟机5E9B69-59698132最先进的荷兰阿斯麦公司的EUV光刻机,采用的光源波长是13.5纳米的极紫外光,光刻机分辨率为38纳米,但是利用这台光刻机可以实现7纳米、5纳米等集成电路工艺。通常说的台积电或者中芯国际7纳米或者5纳米工艺,指的是集成电路工艺水平,不是光刻机的分辨率。

    套刻指的是由于结构需要,其他碟机5E9B69-59698132在一个硅片上进行多次光刻曝光,其他碟机5E9B69-59698132像做大小不同的套娃一样,由于每次曝光实际位置与预设位置可能存在差别,如果偏差太大,误差积累起来是很惊人的。因此,必须把这个误差控制在一个很小的数值内,这个数值就是套刻精度。目前,荷兰阿斯麦公司的光刻机能够实现1.4纳米的套刻精度,也就是两次光刻之间的位置偏差,不到一根头发丝的万分之一!

    产率描述的是光刻曝光的速度,其他碟机5E9B69-59698132即光刻机的生产率,其他碟机5E9B69-59698132通常用光刻机在单位时间内,比如每小时曝光的硅片数量来表示,目前,最高水平的光刻机,每小时曝光速度可以达到275片硅片。

    其他碟机5E9B69-596981324 光刻机精度要达到飞机之间穿针引线

    中国科学院上海光学精密机械研究所王向朝研究员,其他碟机5E9B69-59698132曾经指出光刻机是大系统、高精尖技术与工程极限高度融合的结晶,并且有一个生动的比喻:

    “光刻机工作时,其他碟机5E9B69-59698132需要工件台和掩模台在高速运动过程中始终保持几纳米的同步精度。比如浸液式光刻机,其他碟机5E9B69-59698132工件台的运动速度可达1m/s,两个台子的同步运动误差的平均值需要控制到1纳米,相当于人类头发丝直径的几万分之一,这相当于两架时速1000千米的飞机同步飞行,两架飞机相对位置偏差的平均值要控制到0.3微米以内。这个难度,应该是远高于两架超音速飞机同步飞行的时候,从一架飞机中伸出的缝衣服用的线能够准确穿进另一架飞机上的针孔的难度,如此高的难度使得光刻机的工件台/掩模台系统被誉为超精密机械技术的最高峰”。

    其他碟机5E9B69-59698132光刻机是超复杂超精密的系统